キヤノン、ナノインプリントリソグラフィ技術を使用した半導体製造装置を発売

2023年10月13日、キヤノン（東京）は、半導体デバイスの製造で最も重要な回路パターンの転写を担うナノインプリント半導体露光装置を発売しました。これまでの投影露光技術とは異なる方式でパターンを形成するナノインプリントリソグラフィ技術を使用し、半導体露光装置のラインアップを拡充します。

従来の露光装置は、ウエハー上に写真の原理で回路を焼き付けるのに対し、新製品はウエハー上のレジストに回路パターンを刻み込んだマスク（型）をハンコのように押し付けて回路パターンを形成します。

今回キヤノンが発表した露光装置は、従来の露光装置とは全く違うものです。なぜ新しい方法を開発したかというと、今までの露光装置の技術的限界が近づいているからです。

ICやLSIはどんどん小さくなっており、LSIの回路パターンを形成する露光装置の性能もどんどん上がっています。パターンを焼き付けるために必要な光の波長は微細化に伴ってどんどん短くなっており、その光源の技術的限界が近づいているのです。

光の波長が短くなると、露光装置の核心的な部分である「レンズ」の規模や複雑さも増大します。そのため、最先端の半導体生産に必要な最先端の露光装置は大変高額で、一台100億円を超えるものも存在しています。ですから従来の露光方法とは異なる方法で微細化を行える露光装置が望まれていました。

その「ゲームチェンジャー」となる可能性を秘めた技術が、今回採用された「ナノインプリント」と呼ばれる技術です。

そこで、ナノインプリントの特許調査を行ったところ、累計で1617件出願されており、その内101件がキヤノンによるものです。全体の件数に占めるキヤノンの割合はかなり高く、キヤノンがこの技術に期待をしていることが分かります。

この新しい技術がどう発達していくのかは今のところ未知数ですが、同業の他社が追従してくることも考えられ、注目の分野です。それに伴って、出願件数も増えると予想されます。

参考

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元機械技術者のWEBライター。その後は→専門商社→特許技術者へと渡り歩く（飲み歩く）。その後フリーランスで特許調査に関わる。ミドル世代。

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